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        技術(shù)文章/ article

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        • 2025-09-30

          共立KEW-ITD是一款專為測(cè)量殺菌紫外線(UVC,波長(zhǎng)254nm)照度而設(shè)計(jì)的高精度手持式儀器。它主要用于驗(yàn)證和監(jiān)測(cè)使用UVC燈進(jìn)行表面、空氣和水體消毒的效果,確保消毒設(shè)備工作在有效范圍內(nèi)。核心特點(diǎn)精準(zhǔn)的UVC測(cè)量:傳感器經(jīng)過特殊設(shè)計(jì),對(duì)254nm波長(zhǎng)的紫外線具有極的高的靈敏度,并能有效過濾掉可見光和其他非目標(biāo)波長(zhǎng)的紫外線(如UVA、UVB),確保讀數(shù)的準(zhǔn)確性。這對(duì)于有效評(píng)估殺菌效果至關(guān)重要。符合國(guó)際安全標(biāo)準(zhǔn):其測(cè)量方法和性能符合JISC1609-1:2020(日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)...

        • 2025-09-29

          一、核心概述:它是什么?KETTKB-30是一款由日本KETT電氣實(shí)驗(yàn)室株式會(huì)社生產(chǎn)的在線式近紅外水分儀。它的主要特點(diǎn)是:在線檢測(cè):安裝在生產(chǎn)線(如傳送帶、管道等)上,對(duì)移動(dòng)中的物料進(jìn)行連續(xù)、實(shí)時(shí)的水分測(cè)量。非接觸式:傳感器不接觸物料,避免了磨損和對(duì)物料的污染,特別適合清潔要求高的行業(yè)。快速響應(yīng):近紅外光測(cè)量速度極快,能瞬間讀取水分?jǐn)?shù)據(jù),幾乎沒有延遲。高精度:采用特定的近紅外波長(zhǎng),對(duì)水分子有很好的吸收特性,從而實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量。二、工作原理KB-30基于近紅外吸收法:發(fā)射:儀器...

        • 2025-09-29

          一、在石油化工行業(yè)的作用石化行業(yè)通常擁有大規(guī)模的蒸汽管網(wǎng)和高溫高壓設(shè)備。保障關(guān)鍵工藝裝置穩(wěn)定運(yùn)行加熱不均:影響反應(yīng)效率和產(chǎn)品收率。水錘現(xiàn)象:高壓蒸汽遇到管道中的冷凝水會(huì)產(chǎn)生巨大沖擊力,可能損壞管道和設(shè)備,甚至引發(fā)安全事故。作用:在裂解爐、精餾塔、反應(yīng)器的蒸汽伴熱和加熱系統(tǒng)中,疏水閥一旦失效(泄漏或堵塞),會(huì)導(dǎo)致:TLV工具的應(yīng)用:定期使用超聲波檢漏儀巡檢,可以提前發(fā)現(xiàn)故障疏水閥,預(yù)防性更換,避免非計(jì)劃停機(jī)。節(jié)能降耗,直接降低生產(chǎn)成本作用:石化廠是能耗大戶。一個(gè)高壓蒸汽疏水閥泄...

        • 2025-09-29

          一、核心技術(shù)與特點(diǎn)理光工業(yè)噴墨頭采用薄膜壓電式技術(shù),其核心優(yōu)勢(shì)在于:高精度與高分辨率采用精密的MEMS制造工藝,噴嘴孔徑小,排列密集。可以實(shí)現(xiàn)高達(dá)1200npi甚至更高的原生分辨率,打印效果細(xì)膩,線條和文字清晰銳利。高速度與高頻率噴墨頻率非常高,主流型號(hào)可達(dá)30-50kHz,這意味著每個(gè)噴嘴每秒可以噴射數(shù)萬滴墨滴。通過增加噴嘴數(shù)量(如MH5420/5421擁有2048個(gè)噴嘴),實(shí)現(xiàn)了在單次掃描中覆蓋更大面積,從而達(dá)成極的高的生產(chǎn)速度。可變墨滴技術(shù)這是理光噴頭的王的牌技術(shù)之一。...

        • 2025-09-29

          核心技術(shù)與工作原理理光塑料分類傳感器通常采用高精度近紅外(NIR)光譜分析技術(shù)。其工作原理是:照射:傳感器向被測(cè)塑料發(fā)射近紅外光。吸收:不同種類的塑料分子會(huì)對(duì)特定波長(zhǎng)的近紅外光產(chǎn)生吸收。分析:傳感器接收反射回來的光線,并分析其光譜“指紋”。識(shí)別:將獲得的光譜與內(nèi)置的龐大數(shù)據(jù)庫(kù)進(jìn)行比對(duì),瞬間確定塑料的種類(如PET、HDPE、PVC、PP、PS等),甚至能識(shí)別顏色、添加劑和雜質(zhì)。主要適用場(chǎng)景理光的塑料分類傳感器主要應(yīng)用于以下對(duì)分揀純度要求極的高的工業(yè)場(chǎng)景:1.塑料回收處理中心(...

        • 2025-09-29

          半導(dǎo)體制造的潔凈基石:精密清洗技術(shù)與SONOSYS的解決方案在納米尺度上構(gòu)筑龐大計(jì)算世界的半導(dǎo)體工業(yè),其基石在于對(duì)“潔凈”的極的致追求。制造過程中的任何微小污染物——即便是納米級(jí)的顆粒、微不足道的有機(jī)物殘留或是痕量的金屬離子——都如同落入精密鐘表里的沙粒,足以導(dǎo)致整個(gè)芯片性能失效、良率暴跌。因此,貫穿于硅片、芯片乃至光掩膜版制造的每一環(huán)節(jié),清洗工藝都扮演著不的可的或的缺的“清道夫”角色,其技術(shù)水平直接決定了集成電路的性能與可靠性。一、為何清洗?——微觀世界中的無形之戰(zhàn)半導(dǎo)體清...

        • 2025-09-28

          為真理探索掃清障礙:SONOSYS實(shí)驗(yàn)室清洗方案,確保無污染起點(diǎn)在科學(xué)研究的征途中,實(shí)驗(yàn)室是探索真理的核心陣地,而實(shí)驗(yàn)器具的清潔度則是確保實(shí)驗(yàn)結(jié)果準(zhǔn)確性和可靠性的關(guān)鍵前提。SONOSYS實(shí)驗(yàn)室清洗方案以其先進(jìn)的技術(shù)、精準(zhǔn)的清洗效果和高度的可靠性,為科研人員提供了一個(gè)無污染的起點(diǎn),助力科學(xué)研究的每一步都建立在堅(jiān)實(shí)的基石之上。一、實(shí)驗(yàn)室清洗的重要性實(shí)驗(yàn)室是科學(xué)研究的基石,而實(shí)驗(yàn)器具的清潔度直接影響實(shí)驗(yàn)結(jié)果的準(zhǔn)確性和可靠性。無論是化學(xué)分析、生物實(shí)驗(yàn)還是物理測(cè)試,任何微小的污染都可能...

        • 2025-09-28

          量身定制,凈益求精:TEKHNETK-100滿足您獨(dú)特的實(shí)驗(yàn)室清洗需求在實(shí)驗(yàn)室環(huán)境中,清洗工作往往面臨著多樣化的挑戰(zhàn)。從精密儀器的維護(hù),到實(shí)驗(yàn)樣品的預(yù)處理,再到各類實(shí)驗(yàn)器具的清潔,每一個(gè)環(huán)節(jié)都要求極高的清潔標(biāo)準(zhǔn)和精準(zhǔn)的操作。TEKHNETK-100清洗設(shè)備以其高度的靈活性和卓的越的性能,為實(shí)驗(yàn)室提供了量身定制的清洗解決方案,助力科研人員專注于核心實(shí)驗(yàn)工作,無需為清洗環(huán)節(jié)耗費(fèi)過多精力。一、實(shí)驗(yàn)室清洗的特殊需求實(shí)驗(yàn)室清洗工作具有以下特點(diǎn)和需求:(一)多樣化的清洗對(duì)象實(shí)驗(yàn)室中需要清...

        • 2025-09-28

          芯凈界,新標(biāo)準(zhǔn):TEKHNETK-100重新定義精密清洗價(jià)值在精密制造領(lǐng)域,清洗工藝一直是確保產(chǎn)品質(zhì)量和性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。隨著科技的飛速發(fā)展,傳統(tǒng)清洗技術(shù)已難以滿足高的端制造對(duì)超潔凈表面的要求。TEKHNE公司推出的TK-100精密清洗設(shè)備,憑借其創(chuàng)新的技術(shù)和卓的越的性能,重新定義了精密清洗的價(jià)值,為精密制造行業(yè)樹立了新的標(biāo)準(zhǔn)。一、精密清洗的行業(yè)痛點(diǎn)在現(xiàn)代精密制造中,無論是半導(dǎo)體芯片、航空航天零部件,還是高的端光學(xué)元件,表面清潔度都直接影響產(chǎn)品的性能、可靠性和壽命。然而,傳統(tǒng)清...

        • 2025-09-28

          為芯片制造掃清障礙:SONOSYS清洗解決方案,實(shí)現(xiàn)超低粒子殘留在當(dāng)今數(shù)字化時(shí)代,芯片作為現(xiàn)代科技的核心,其制造工藝的復(fù)雜性和精密性達(dá)到了前的所的未的有的高度。芯片制造過程中的每一個(gè)環(huán)節(jié)都至關(guān)重要,而清洗工藝更是其中的關(guān)鍵一環(huán)。SONOSYS清洗解決方案以其卓的越的性能和創(chuàng)新的技術(shù),為芯片制造掃清障礙,助力芯片產(chǎn)業(yè)邁向更高的臺(tái)階。一、芯片制造中的清洗挑戰(zhàn)芯片制造過程中,從硅片的初始處理到最終封裝,每一步都可能產(chǎn)生微小的粒子、有機(jī)物、金屬離子等雜質(zhì)。這些雜質(zhì)若不被徹的底清除,將...

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