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更新時(shí)間：2025-10-22 
瀏覽次數(shù)：45公司全稱： SONOSYS GmbH
核心技術(shù)： 兆聲波清洗技術(shù)
市場(chǎng)定位： 面向高的端制造業(yè)，提供精密、無(wú)損、高效的濕法清洗解決方案。
關(guān)鍵特點(diǎn)： SONOSYS并非簡(jiǎn)單的超聲波清洗機(jī)制造商，而是專注于將兆聲波能量 進(jìn)行高度均勻和可控地分布到清洗液中，以實(shí)現(xiàn)傳統(tǒng)超聲波無(wú)法達(dá)到的清洗效果，同時(shí)避免對(duì)脆弱、精密的器件表面造成損傷。
要理解SONOSYS的優(yōu)勢(shì)，首先要明白兆聲波的原理：
傳統(tǒng)超聲波： 頻率通常在20 kHz - 80 kHz。它主要依靠“空化效應(yīng)"——液體中氣泡的形成和猛烈內(nèi)爆產(chǎn)生的沖擊波和微射流來(lái)剝離污染物。這種力量雖然強(qiáng)大，但過(guò)于劇烈，容易對(duì)納米級(jí)的精細(xì)結(jié)構(gòu)（如芯片上的低-k介質(zhì)層、微小的引線）造成物理?yè)p傷（侵蝕、擊穿）。
兆聲波： 頻率通常在800 kHz 至 3 MHz 之間，遠(yuǎn)高于傳統(tǒng)超聲波。其核心作用機(jī)制是：
聲流效應(yīng)： 高頻振動(dòng)在液體中產(chǎn)生強(qiáng)大的、定向的聲流，這種“液體微風(fēng)"能有效地沖刷工件表面，將已經(jīng)松動(dòng)的顆粒帶走。
溫和的微空化： 兆聲波也會(huì)產(chǎn)生空化，但氣泡更小、生命周期更短，內(nèi)爆能量極低。這種“微空化"足以破壞污染物與基材之間的范德華力，但不足以損傷基材本身。
粒子加速度： 高頻振動(dòng)給溶液中的微小顆粒施加極的高的加速度，使其更容易從表面脫離。
核心區(qū)別總結(jié)：
| 特性 | 傳統(tǒng)超聲波 | SONOSYS 兆聲波 |
|---|---|---|
| 頻率 | 低頻 (20-80 kHz) | 高頻 (800 kHz - 3 MHz) |
| 作用機(jī)理 | 強(qiáng)烈的空化效應(yīng)（氣泡內(nèi)爆） | 聲流效應(yīng) + 溫和的微空化 |
| 清洗力 | 強(qiáng)，但方向性差 | 強(qiáng)，且高度可控、定向 |
| 對(duì)工件影響 | 可能損傷精細(xì)結(jié)構(gòu)、產(chǎn)生空化腐蝕 | 無(wú)損、溫和，適合最的精密的器件 |
| 顆粒去除 | 對(duì)亞微米顆粒效果有限 | 高效去除亞微米甚至納米級(jí)顆粒 |
專的利的換能器技術(shù)：
SONOSYS擁有其獨(dú)特的壓電陶瓷換能器設(shè)計(jì)和制造技術(shù)。
能夠產(chǎn)生高度均勻、穩(wěn)定的聲場(chǎng)，確保清洗槽內(nèi)每一個(gè)位置的工件都能獲得一致的清洗效果，無(wú)“熱點(diǎn)"或“死區(qū)"。
均勻的能量分布：
這是SONOSYS的核心競(jìng)爭(zhēng)力。其設(shè)備能確保兆聲波能量在整個(gè)清洗槽內(nèi)均勻分布，這對(duì)于同時(shí)清洗大量高價(jià)值晶圓或芯片至關(guān)重要，保證了產(chǎn)品良率的一致性。
卓的越的顆粒去除效率：
專門用于去除亞微米（<0.1µm）和納米級(jí)顆粒，這些顆粒是導(dǎo)致半導(dǎo)體器件短路和性能下降的主要原因。在去除拋光后（CMP）的顆粒污染物方面表現(xiàn)尤為出色。
無(wú)損清洗：
由于避免了劇烈的空化效應(yīng)，SONOSYS設(shè)備可以對(duì)脆弱的結(jié)構(gòu)（如硅通孔TSV、微凸點(diǎn)、超薄晶圓、低-k介質(zhì)材料）進(jìn)行安全、可靠的清洗，而不會(huì)造成任何物理或結(jié)構(gòu)損傷。
與化學(xué)液協(xié)同優(yōu)化：
設(shè)備的設(shè)計(jì)能與各種先進(jìn)的清洗化學(xué)品（如SC1、SC2、稀釋的HF等）完的美配合，通過(guò)兆聲波的物理作用增強(qiáng)化學(xué)反應(yīng)的效率，實(shí)現(xiàn)“1+1>2"的清洗效果。
高可靠性與長(zhǎng)壽命：
采用工業(yè)級(jí)標(biāo)準(zhǔn)制造，換能器壽命長(zhǎng)，設(shè)備穩(wěn)定可靠，能夠滿足半導(dǎo)體工廠7x24小時(shí)連續(xù)生產(chǎn)的需求。
SONOSYS提供從單個(gè)兆聲波模塊到完整的全自動(dòng)清洗系統(tǒng)的一系列產(chǎn)品。
模塊化兆聲波清洗槽：
可以集成到客戶現(xiàn)有的濕法清洗站或自動(dòng)物料搬運(yùn)系統(tǒng)中。
適用于研發(fā)、中試或特定工藝步驟。
全自動(dòng)兆聲波清洗系統(tǒng)：
完整的“交鑰匙"解決方案，通常包含多個(gè)工藝槽（如預(yù)清洗、兆聲波主清洗、漂洗、干燥）。
集成機(jī)械手、化學(xué)品管理系統(tǒng)、溫度控制和先進(jìn)的軟件界面。
應(yīng)用于半導(dǎo)體前道制程、后道先進(jìn)封裝等。
典型應(yīng)用領(lǐng)域：
半導(dǎo)體制造：
CMP后清洗
刻蝕后殘留物去除
離子注入后光阻去除與清洗
先進(jìn)封裝：
晶圓級(jí)封裝清洗
凸點(diǎn)制備后清洗
TSV清洗
MEMS器件制造：
釋放刻蝕后結(jié)構(gòu)清洗
鍵合前清洗
光電子與化合物半導(dǎo)體：
LED、激光器芯片的清洗
數(shù)據(jù)存儲(chǔ)：
磁頭、磁盤的精密清洗
在摩爾定律的驅(qū)動(dòng)下，芯片制程不斷微縮（現(xiàn)已進(jìn)入3nm、2nm時(shí)代），任何微小的污染都可能導(dǎo)致整個(gè)芯片失效。因此，清洗已成為半導(dǎo)體制造中步驟最多、最關(guān)鍵的技術(shù)之一。SONOSYS的兆聲波設(shè)備在其中扮演了“清道夫"的角色，確保了：
高良率： 通過(guò)徹的底去除導(dǎo)致短路的顆粒和污染物，直接提升芯片的生產(chǎn)良率。
高可靠性： 無(wú)損清洗保證了芯片內(nèi)部納米結(jié)構(gòu)的完整性，從而確保其長(zhǎng)期使用的可靠性。
技術(shù)可行性： 沒有先進(jìn)的清洗技術(shù)，許多先進(jìn)的芯片架構(gòu)將無(wú)法實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。
德國(guó)SONOSYS代表了兆聲波清洗領(lǐng)域的頂尖水平。它通過(guò)其獨(dú)特的高頻、均勻、可控的兆聲波技術(shù)，解決了高的端制造業(yè)，尤其是半導(dǎo)體行業(yè)，在精密清洗方面面臨的“既要洗干凈，又不能洗壞"的核心矛盾。選擇SONOSYS設(shè)備，對(duì)于追求最高產(chǎn)品良率和可靠性的先進(jìn)制造企業(yè)來(lái)說(shuō)，是一項(xiàng)關(guān)鍵的戰(zhàn)略投資。
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